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Multi-zone 유량 조절이 가능한 CVD/ALD용 가스분배장치

연구자
엄태용 박사
작성일
2021-07-30 09:45:16.0
분류
정보·전자 소재 > 반도체 > 박막 소재
응용분야
반도체용 박막 제조 기술
적용제품
CVD, ALD용 증착 장치
첨부파일
2021년-02차 KRICT SMK_부분 130.pdf [1,119.4 KB] 미리보기
상부 플레이트와 하부 플레이트 중 어느 하나를 회전 시키거나 수평이동 시킬 경우 웨이버 내·외 측의 실효 공극 크기와
개수가 개별적으로 조절되어, 웨이퍼의 각 영역에 증착되는 가스의 양을 조절할 수 있는 화학 기상 증착 반응 장치
메뉴담당자 담당부서 : 기술사업화실 담당자 : 김종철 연락처 : 042-860-7080
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