본문 바로가기 대메뉴 바로가기
기술지원
홈
기술지원
기술이전가능 기술
유망기술소개자료(SMK)

키워드 검색

포토레지스트 정제용 나노급 기공을 형성한 멤브레인

연구자
김인철 박사
작성일
2021-04-08 10:55:58.0
분류
환경·안전 관리 > 수처리 > 분리막
응용분야
정보 · 전자, 환경 · 안전
적용제품
포토레지스트 용액 정제, 액정 디스플레이, 반도체 등
첨부파일
2020-02 KRICT SMK_부분178.pdf [827.7 KB] 미리보기
나노급 기공을 형성하여 포토레지스트 용액의 불순물을 제거할 수 있고 소수성 지지층 표면을
친수화 시킬 수 있는 멤브레인 제조 기술
메뉴담당자 담당부서 : 기술사업화실 담당자 : 김종철 연락처 : 042-860-7080
만족도조사
만족도 조사 이 페이지에서 제공하는 정보에 대하여 만족하시나요?