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다중 고분자층을 포함하는 극성 멤브레인의 제조방법 및 이에 의해 제조된 극성 멤브레인

연구자
김인철 박사
작성일
2021-04-07 15:30:01.0
분류
정보·전자 소재 > 반도체 > 포토레지스트
응용분야
정보 · 전자
적용제품
반도체 제조공정(포토레지스트 용액 정제 공정)
첨부파일
2020-02 KRICT SMK_부분117.pdf [751.7 KB] 미리보기
제1고분자 함유 용액 및 제2고분자 함유 용액을 이용하여 고분자층을 이중으로 형성함으로써 , 소프트 파티클의 제거효율을 크게 높일 수 있는 극성 멤브레인 제조 기술
메뉴담당자 담당부서 : 기술사업화실 담당자 : 김종철 연락처 : 042-860-7080
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